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Growth dynamics of reactive-sputtering-deposited AlN films

dc.contributor.authorAuger, M.A.es-ES
dc.contributor.authorVázquez Burgos, Luís Fernandoes-ES
dc.contributor.authorSánchez, O.es-ES
dc.contributor.authorJergel, M.es-ES
dc.contributor.authorCuerno Rejado, Rodolfoes-ES
dc.contributor.authorCastro Ponce, Marioes-ES
dc.date.accessioned2016-05-23T03:06:51Z
dc.date.available2016-05-23T03:06:51Z
dc.date.issued2005-06-15es_ES
dc.identifier.issn0021-8979es_ES
dc.identifier.uri10.10631.1937467es_ES
dc.descriptionArtículos en revistases_ES
dc.description.abstractes-ES
dc.description.abstracten-GB
dc.language.isoen-GBes_ES
dc.rightses_ES
dc.rights.uries_ES
dc.sourceRevista: Journal of Applied Physics, Periodo: 1, Volumen: online, Número: 12, Página inicial: 123528.1, Página final: 123528.8es_ES
dc.subject.otherInstituto de Investigación Tecnológica (IIT)es_ES
dc.titleGrowth dynamics of reactive-sputtering-deposited AlN filmses_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articlees_ES
dc.description.versioninfo:eu-repo/semantics/publishedVersiones_ES
dc.rights.accessRightsinfo:eu-repo/semantics/restrictedAccesses_ES
dc.keywordses-ES
dc.keywordsen-GB


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