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http://hdl.handle.net/11531/12068
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Campo DC | Valor | Lengua/Idioma |
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dc.contributor.author | Galiana Blanco, Beatriz | es-ES |
dc.contributor.author | Benedicto Córdoba, Marcos | es-ES |
dc.contributor.author | Vázquez Burgos, Luís | es-ES |
dc.contributor.author | Molina Aldereguia, Jon | es-ES |
dc.contributor.author | Tejedor Jorge, Paloma | es-ES |
dc.date.accessioned | 2016-08-31T15:16:49Z | - |
dc.date.available | 2016-08-31T15:16:49Z | - |
dc.date.issued | 26/04/2012 | es_ES |
dc.identifier.issn | 2040-3364 | es_ES |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11531/12068 | - |
dc.description | Artículos en revistas | es_ES |
dc.description.abstract | Hemos evaluado el efecto de recocido térmico en la morfología, la fase cristalina y la composición elemental de nanopatrones de dieléctricos de alta K HfO2-on-GaAs a 500-620C mediante el uso de microscopía de fuerza atómica (AFM), de alta resolución microscopía electrónica de transmisión ( HRTEM) y espectroscopia de rayos X de energía dispersiva (EDS). | es-ES |
dc.description.abstract | We have evaluated the effect of thermal annealing on the morphology, crystalline phase and elemental composition of high-k dielectric HfO2-on-GaAs nanopatterns at 500 620 C by using atomic force microscopy (AFM), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS). | en-GB |
dc.format.mimetype | application/pdf | es_ES |
dc.language.iso | en-GB | es_ES |
dc.rights | es_ES | |
dc.rights.uri | es_ES | |
dc.source | Revista: Nanoscale, Periodo: 12, Volumen: 4, Número: 4, Página inicial: 3734, Página final: 3738 | es_ES |
dc.title | Thermal stability of HfO2-on-GaAs nanopatterns | es_ES |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article | es_ES |
dc.description.version | info:eu-repo/semantics/publishedVersion | es_ES |
dc.rights.holder | Revista comercial | es_ES |
dc.rights.accessRights | info:eu-repo/semantics/restrictedAccess | es_ES |
dc.keywords | Nanotecnología, high-k, III-V, HfO2, GaAs, patrones, recocido, AFM, TEM, EDS, transistor | es-ES |
dc.keywords | Nanotechnology, high-k, III-V, HfO2, GaAs, patterns, annealing, AFM, TEM, EDS, transistor | en-GB |
Aparece en las colecciones: | Artículos |
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Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
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Thermal stability of HfO2-on-GaAs nanopatterns (nanoscale).pdf | 566,35 kB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir Request a copy |
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