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Fecha de publicación | Título | Autor(es) |
20 | Nanoscale selective plasma etching of ultrathin HfO2 layers for advanced complementary metal-oxide-semiconductor devices | Anguita, José; Benedicto Córdoba, Marcos; Álvaro, Raquel; Galiana Blanco, Beatriz; Tejedor Jorge, Paloma |
22 | Nanostructuring of ultra-thin HfO2 layers for high-k/III-V device application | Benedicto Córdoba, Marcos; Anguita, José; Álvaro, Raquel; Galiana Blanco, Beatriz; Molina Aldereguia, Jon; Tejedor Jorge, Paloma |