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dc.contributor.authorBenedicto Córdoba, Marcoses-ES
dc.contributor.authorTejedor Jorge, Palomaes-ES
dc.date.accessioned2019-06-18T14:37:24Z-
dc.date.available2019-06-18T14:37:24Z-
dc.date.issued01/02/2019es_ES
dc.identifier.issn2059-8521es_ES
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11531/37456-
dc.descriptionArtículos en revistases_ES
dc.description.abstractSelective area growth of InxGa1-xAs nanowires on HfO2 templates for highly scaled n-MOS deviceses-ES
dc.description.abstractSelective area growth of InxGa1-xAs nanowires on HfO2 templates for highly scaled n-MOS devicesen-GB
dc.format.mimetypeapplication/pdfes_ES
dc.language.isoen-GBes_ES
dc.rightsCreative Commons Reconocimiento-NoComercial-SinObraDerivada Españaes_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/es_ES
dc.sourceRevista: MRS Advances, Periodo: 12, Volumen: 1, Número: 1, Página inicial: 1, Página final: 6es_ES
dc.titleSelective area growth of InxGa1-xAs nanowires on HfO2 templates for highly scaled n-MOS deviceses_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articlees_ES
dc.description.versioninfo:eu-repo/semantics/publishedVersiones_ES
dc.rights.holderes_ES
dc.rights.accessRightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_ES
dc.keywordsSelective area growth of InxGa1-xAs nanowires on HfO2 templates for highly scaled n-MOS deviceses-ES
dc.keywordsSelective area growth of InxGa1-xAs nanowires on HfO2 templates for highly scaled n-MOS devicesen-GB
dc.identifier.doi10.1557/adv.2019.96es_ES
Aparece en las colecciones: Artículos



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